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熱處理工藝
發(fā)布時間：
2020-07-21
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(一) 覆層。其主要工藝過程有：
(1)熱浸鍍 將金屬制件浸入熔融金屬中，使其表面上形成與基體牢固結合的金屬鍍覆層的過程稱為熱浸鍍，如熱浸錫等。
(2)熱噴鍍 將熔融狀態(tài)的金屬霧化并連線噴射在制件表面上，形成與基體牢固結合的金屬覆蓋層的過程稱為熱噴鍍，如熱噴鋅等。
(3)熱燙印 將各類金屬箔在加溫加壓下覆蓋于制件表面的過程稱為熱燙印，如燙印鋁箔等。
(4)化學熱處理 將制件與化學物質相接觸，在高溫下使有關元素進入制件表面層的過程稱為化學熱處理，如滲碳、滲氮等。
(二) 高真空方法 此法是利用材料在高真空下的氣化或受激離子化而在制件表面形成鍍覆層的過程。常見的工藝有：
(1)真空蒸發(fā)鍍 在高真空容器中，將金屬材料加熱蒸發(fā)，并鍍著在制件表面上，形成與基體牢固結合的金屬或非金屬覆蓋層的過程稱為真空蒸發(fā)鍍，簡稱真空鍍或蒸發(fā)鍍，如真空鍍鋁，真空鍍鍍金等。
(2)濺射鍍 在高真空容器中，在低氣壓下使離子在強電場作用下轟擊膜料，使其表面原子逸出并沉積在制件表面上形成薄膜的過程稱為濺射鍍，如濺射硅、濺射銀等。
(3)離子鍍 在高真空容器中，在低氣壓下利用蒸發(fā)源蒸出的粒子，經(jīng)過輝光放電區(qū)部分電離，通過擴散和電場作用，沉積于制件表面形成與基本牢固結合鍍覆層的過程稱為離子鍍，如鍍氮化鈦等。
(4)化學氣相鍍 在低壓下，利用氣態(tài)物質在固態(tài)表面上進行化學反應生成與基體結合良好的固體沉積層的過程稱為化學氣相鍍(有時也有常壓下進行)。如氣相沉積氧化硅、氮化硅等。
(5)離子注入 在高壓電下將不同離子注入工件表面以改變表面性質的過程稱為離子注入，如注硼等。
(三) 其它物理方法 主要利用機械的或化學的方法將有關金屬鍍覆于制件表面之上。屬于這一類有：
(1) 沖擊鍍 利用機械沖擊作用將有關金屬鍍覆于制件表面并形成與基體牢固 結合的鍍覆層過程稱為涂裝，如涂漆等。
(2) 涂裝 利用噴射、涂飾等方法，將有機涂料覆于制件表面并形成與基本牢固結合的涂覆層過程稱為涂裝，如涂漆等。
(3) 激光表面加工，利用激光對制件表面進行輻照，使制件表面結構改變的過程稱為激光表面加工，如激光淬火等。
以上分類法只有相對意義，因為很多工藝往往兼具幾種方法的特點，關于各種工藝的詳細過程將在下面各章中介紹。利用這些工藝得到的鍍覆層的主要特性和用途列于表1-1和1-2中。